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杭州专业宁波塑料表面处理定做品牌推荐

作者:余姚市天仁真空镀膜 发布时间:2020-05-12 11:57:21

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等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiNTiCTiCN(TiSiN(TiSiCN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。与CVD和PVD相比,PCVD技术可实现离子渗氮渗碳和镀膜在同一炉内依次进行,率地实现渗透复合工艺。该设备适用于要求提高表面耐磨损耐腐蚀抗高温氧化抗疲劳的部件和工模具。被处理材料主要包括高速钢冷热钢冷热模具钢结构钢不锈钢钛合金硬质合金。

杂质多,镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度很高,一般要控制在1000℃左生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中,容易产生溶液污染,如果镀件表层元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面。

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